光刻机技术到底是谁发明的?

光刻机技术是法国人Nicephore?Niepce发明的。

在早期阶段其功能简单，而且使用的材料也是较为粗糙的，通过材料光照实验发现能够复制一种刻着在油纸上的印痕，而在其出现在玻璃片上后，经过一段时间的日晒，其透光部分的沥青就会变得很硬，但在不透光部分则可以用松香和植物油将其洗掉。

尽管光刻机发明的时间较早，不过在其发明之后，并没有在各行业领域之中被使用，直到第2次世界大战时，该技术应用于印刷电路板，所使用的材料和早期发明时使用的材料也已经有了极大区别。

在塑料板上通过铜线路制作，让电路板得以普及，短期之内就成为了众多电子设备领域中最为关键的材料之一。

光刻机性能指标：

光刻机的主要性能指标有：支持基片的尺寸范围，分辨率、对准精度、曝光方式、光源波长、光强均匀性、生产效率等。

分辨率是对光刻工艺加工可以达到的最细线条精度的一种描述方式。光刻的分辨率受受光源衍射的限制,所以与光源、光刻系统、光刻胶和工艺等各方面的限制。

对准精度是在多层曝光时层间图案的定位精度。

曝光方式分为接触接近式、投影式和直写式。

曝光光源波长分为紫外、深紫外和极紫外区域，光源有汞灯，准分子激光器等。

20年前那会儿我们都是用手画的，单层的直接用毛笔蘸油漆画，双层的先钻孔再画。后来发明了贴图，在零件点可以买到各种焊盘和连接线的贴图，黑色的，很便宜，再敷铜板上帖，比用毛笔画容易也精确得多。在精细一点的板子要用到光刻，先用PCB CAD将电路板设计好，用绘图机在半透明之上画出来，或者将Gerber文件送到激光绘图机制成胶片。到电子零件商店买一点感光胶（光刻胶）和清洗剂，不贵的，将感光胶均匀涂到敷铜板上，干后将绘制好的或胶片放到上面，在紫外线灯光下照射，没有紫外线灯日光灯也可以，然后用清洗剂将没有感光的部分清洗掉。最后到化工商店买一小瓶三氯化铁，把画好的板子放到三氯化铁里面腐蚀，搅动及加热液体会加速腐蚀的速度。注意观察腐蚀的程度，不要腐蚀过度。完了用清水冲干净就好了。三氯化铁对皮肤没有明显的伤害。