国家支持平台企业创新发展、增强国际竞争力

证券时报记者王一鸣

“工欲善其事，必先利其器。”半导体行业也是如此:没有能加工几千到几万根规模的人类头发的半导体设备，就不可能做出芯片。

在国际尖端半导体微加工设备领域，作为后起之秀，中微公司现已成长为极具竞争力的新星。在美国知名咨询机构VLSI Research举办的全球半导体设备公司“客户满意度”调查评比中，中威公司2018年、2019年、2021年的综合得分分别为全球第三和第四。2020年，中微公司荣获福布斯“中国最具创新力企业排行榜”，2022年荣获福布斯中国创新企业50强。

中微公司一系列成绩的取得，与公司创始人尹志耀密切相关。是几代等离子刻蚀技术和设备的主要发明人，工业应用的推动者之一。他是400多项专利的主要发明人，并领导开发了一系列成功的等离子蚀刻设备。尹志耀本人入选福布斯中国2020年中国50位最佳CEO。

探究这位传奇半导体人的经历，还得把时间拨回到上世纪六七十年代:尹志耀1967年获得中国科学技术大学化学物理专业学士学位，先后在石油化学工业部兰州炼油厂和中科院兰州化学物理研究所工作；1978年进入北京大学化学系读研究生，1980年赴美留学，1984年获得加州大学洛杉矶分校物理化学博士学位。之后，尹志耀在美国硅谷待了20年，致力于等离子刻蚀设备的研发、产品管理和市场化。

2004年，尹志耀辞去海外高管，选择回国创业，以科技回报祖国；自中威公司成立以来，尹志耀一直担任公司的董事长兼总经理，将超过28年的产品开发和管理经验应用于公司管理。在他的带领和推动下，中威公司在产品研发和市场拓展方面不断取得突破，成为立足中国、面向世界的微细加工高端装备公司，为集成电路和泛半导体产业提供极具竞争力的高端装备和优质服务。

作为首批科技创新板上市公司之一，目前，中威公司研发的一系列刻蚀设备和MOCVD设备在性能和性价比上已进入世界前三，部分产品在细分领域市场占有率居世界第一。其中，刻蚀设备的技术能力达到了5nm及更先进的工艺水平，MOCVD设备在Mini LED等氮化镓基设备中市场份额领先。

展望未来，尹志耀在2021年年报致辞中写道:过去10年，中威保持了年销售额30%以上的高速增长，为未来10到15年的高速增长打下了坚实的基础...我们深知任重而道远，我们将紧紧围绕公司在集成电路和其他半导体设备方面的核心竞争力来规划公司的未来发展，义无反顾地做大做强主业。同时，将与时俱进，积极探索和介入符合公司核心竞争力的其他发展机会，在半导体和泛半导体领域普遍开疆拓土，通过内部孵化发展和外延并购实现协同发展，使业绩增长更可持续，抗行业周期波动能力更强，综合管理水平更高，规模和效益潜力更厚。保持技术进步、规范治理、业务发展和业绩增长的良好势头，并与国际先进水平保持一致。在充分把握国内市场机遇的同时，坚持合理的国际市场布局，打造具有国际竞争力的平台型企业集团。